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前道涂膠顯影機 CD12-XC6C6D1A

前道涂膠顯影機 CD12-XC6C6D1A

產品特點 1.堆疊式高產能架構，占地面積小；
2.配備多段回吸的多腔體共用供膠系統，有效節省光刻膠的用量；
3.選配高精度熱板、WEE、AOI等單元部件，滿足更高標準工藝需求；
4.核心單元模塊化設計，組合方式靈活多變，最大限度客制化；
5.滿足工廠FA自動化需求；
6.可以與主流光刻機聯機。

產品應用

應用范圍：

化合物半導體、功率器件、MEMS、射頻集成電路、LED。


產品參數

片盒數量
4LP
wafer 類型圓片
wafer 尺寸（mm）200,300
產能（WPH）120
襯底材料Si、Glass
適用工藝PI、I- line、Barc、SOG、SOC、KrF


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